K465i GaN MOCVD Reactor

用途：

主要用于生产 LED 高亮度蓝绿光外延片。所谓外延片是通过高科技生长技术生长而成的片状产品，通过芯片器件制作以及封装后便做成了我们熟悉的 LED 及其他发光器件。

应用于大屏幕显示、交通信号灯、手机背景灯等。

工作原理和使用说明：

TurboDisc K465i GaN MOCVD 外延生长系统，能够批量生产 GaN-基蓝、绿光 LEDs和蓝光激光器，以及 GaN 功率器件等。K465i 采用了 Veeco 最先进的 TurboDisc 反应室技术，其产能优于其他同类系统约 50%。

该设备由以下几部分组成：

生长反应腔体（Reactor）：不锈钢真空腔体是整个设备的核心部分，提供外延生长的环境。拥有 Veeco 的专利技术-Turbodisc 腔体设计。位于底部的加热丝提供1000℃以上的高温反应环境。反应腔顶部的气体配流盘将气体配送系统输送的反应气体按照一定的比例分配到反应腔体。底部可以高速旋转的马达带动在承载晶片的载片器高速旋转，使反应气体均匀分配到晶圆表面，发生反应。该设备实行了模块化设计：反应腔，晶圆传送系统等部件可以和主设备分离，以便于搬运。

控制系统：提供整个设备的控制和电气连接分配。包括主控软件Nexus 的控制电脑，温控系统的RealTemp 控制器，数据服务器，PLC，DeviceNet，系统的电气开关和接线端子排，加热丝加热电源箱等。

气体配送系统：调整反应气体的流量和压力并输送到反应腔体。包括质量流量控制器(MFC)，气体压力控制器（PC），金属有机源温度控制系统等。

真空系统：提供系统的真空。包括系统泵，辅助泵和废气排放系统。

外围冷却水系统：由两台热交换器提供系统所需的冷却循环水。

晶片搬运系统：将生长所需晶片搬送到反应腔。包括手套箱，搬运真空腔（loadlock）等。

控制软体：使用了不同于以往的全新的控制软体Nexus。